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| 电沉积Ni—P,Ni—P—Si3N4非晶态合金及其结构,性能研究 | |
| 引用本文： | 王德英,徐有容.电沉积Ni—P,Ni—P—Si3N4非晶态合金及其结构,性能研究[J].功能材料,1998,29(5):502-505. |
| 作者姓名： | 王德英 徐有容 |
| 作者单位： | 上海大学材料科学与工程学院!上海嘉定，201800，上海大学材料科学与工程学院!上海嘉定，201800，上海大学材料科学与工程学院!上海嘉定，201800，上海大学材料科学与工程学院!上海嘉定，201800 |
| 摘 要： | 研究了Ｎｉ－Ｐ、Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶态合金薄膜的是沉积工艺，通过ＳＥＭ－ＥＤＳ，ＸＲＤ，ＥＭＰＡ等微观分析方法，提出了获取８￣１４ｗｔ％Ｎｉ－Ｐ和Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ非晶合金镀层的镀液组成和电沉积参数。实验表明，Ｎｉ－Ｐ非晶态合金镀层在碱液中具有优越的耐蚀性能，在含Ｃｌ＾－１的中性盐液中有良好的耐蚀性，且不产生点蚀；Ｎｉ－Ｐ－Ｓｉ３Ｎ４非晶合金镀层，经晶化处理后，耐蚀性能提高，且与基材呈冶金结合 |
| 关 键 词： | 电沉积 非晶态合金 抗腐蚀性 镍－磷 |
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