|
|||||
|
|
| 适于亚微米光刻的高精度莫尔对准技术研究 | |
| 引用本文： | 杨宏伟,阮玉,杨坤涛.适于亚微米光刻的高精度莫尔对准技术研究[J].量子电子学报,1991(1). |
| 作者姓名： | 杨宏伟 阮玉 杨坤涛 |
| 作者单位： | 华中理工大学光学系 430074 (杨宏伟，阮玉)，华中理工大学光学系 430074(杨坤涛) |
| 摘 要： | 大规模集成电路生产中,光刻机是一关键设备,而光刻机中的掩模——硅片对准系统又是集成电路生产中提高器件的成品率和生产效率、实现光刻操作全自动化的关键,其研究一直受到有关半导体设备研制、生产单位的重视。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |