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| 简式乔赫劳斯基单晶炉 | |
| 引用本文： | 王季中.简式乔赫劳斯基单晶炉[J].山东大学学报(工学版),1962(1). |
| 作者姓名： | 王季中 |
| 摘 要： | 绪言由于晶体三极管的发明,对于高质量的半导体材料的要求越显得需要。但多晶的半导体材料不能满足这种要求,而必须制备结构完正,纯度甚高,并具有可控制电阻率的单晶材料。此外在固体物理的研究中;在冶金学关于金属性质的探讨中以及原子能的研究中;都需要超纯的,完正的单晶材料。因此单晶材料制备的研究和技术,不但在半导体材料工艺学中非常重要;而且在其他的科学和工程技术中也越来越感到需要。制备单晶的方法很多,但对半导体材料来说最常用的是乔赫劳新基(Czochralski)的拉制单晶法。虽然近年来区域致均法已广泛地用于半导体锗和其他Ⅲ—Ⅴ族化合物等材料的制备,但对硅来说这种能使固液界面不与坩埚器壁相接触的拉制法,不 |
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