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| TiAlSi合金γ相内位错网的电子衍衬分析 | |
| 引用本文： | 梁伟,黄孝瑛,郑维能.TiAlSi合金γ相内位错网的电子衍衬分析[J].电子显微学报,1998,17(5):515-516. |
| 作者姓名： | 梁伟 黄孝瑛 郑维能 |
| 作者单位： | 1. 太原理工大学测试中心,太原,030024 2. 钢铁研究总院,北京,100081 3. 首都师范大学,北京,100037 |
| 摘 要： | γ－ＴｉＡｌ中所观察到的位错主要有（１／２）〈１１０］普通位错，（１／２）〈１１２］和［０１１］超点阵位错。Ｋａｄ等研究了ＴｉＡｌ合金层状组织层片界面的位错结构［１］，表明由于非１８０°旋转孪晶界面两侧晶体在界面处的非严格匹配而形成剪切边界，其中一类... |
| 关 键 词： | 位错 电子衍射分析 钛铝硅合金 γ相 晶体 |
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