| 侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用 |
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| 引用本文： | 谢常青,刘明,陈宝钦,叶甜春.侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用[J].半导体学报,2006,27(Z1). |
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| 作者姓名： | 谢常青 刘明 陈宝钦 叶甜春 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子研究所,纳米加工与新器件集成技术实验室,北京,100029 |
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| 摘 要： | 提出了一种全新的移相掩模--侧墙铬衰减型移相掩模(SCAPSM),相对于通常的衰减型移相掩模,其制造工艺仅多两步,却可以较大幅度提高光刻分辨率.采用PROLITH光学光刻模拟软件,参考ArF步进扫描投影光刻机TWINSCAN XT:1400E的曝光参数,对侧墙铬衰减型移相掩模的工艺进行了研究,证明SCAPSM+离轴照明的方案可以将干式193nm光学光刻的分辨率提高到50nm.
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| 关 键 词： | 193nm光学光刻 衰减型移相掩模 离轴照明 数值孔径 PROLITH |
Application on Sidewall Chrome Attenuated New Structure Phase Shift Mask |
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| Xie Changqing,Liu Ming,Chen Baoqin,Ye Tianchun.Application on Sidewall Chrome Attenuated New Structure Phase Shift Mask[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(Z1). |
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| Authors: | Xie Changqing Liu Ming Chen Baoqin Ye Tianchun |
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