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InAsP/InGaAsP/InP应变材料的二维倒空间衍射研究
引用本文:黄占超,吴惠桢,劳燕锋,刘成,曹萌.InAsP/InGaAsP/InP应变材料的二维倒空间衍射研究[J].半导体学报,2006,27(Z1).
作者姓名:黄占超  吴惠桢  劳燕锋  刘成  曹萌
作者单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息与功能材料国家重点实验室,上海,200050
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用X射线衍射三轴二维倒空间衍射图研究了InP(100)衬底上分子束外延生长的压应变InAsP材料和张应变InGaAsP材料.实验测定了两种材料的(004)面、(224)面的倒空间衍射图,得到了处于部分弛豫状态的InGaAsP在不同方向呈现不同的应变状态.排除了外延层倾斜及应变对确定失配度的影响,准确计算得到InAsP外延层体失配度为1.446%,InGaAsP外延层体失配度为-0.5849%,并且生长了高质量的应变补偿8阱多量子阱.

关 键 词:X射线衍射  倒空间mapping  应变  量子阱

XRD Reciprocal Space Mapping of InAsP/InGaAsP/InP Strain Epilayers
Huang Zhanchao,Wu Huizhen,Lao Yanfeng,Liu Cheng,Cao Meng.XRD Reciprocal Space Mapping of InAsP/InGaAsP/InP Strain Epilayers[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(Z1).
Authors:Huang Zhanchao  Wu Huizhen  Lao Yanfeng  Liu Cheng  Cao Meng
Abstract:
Keywords:
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