| 半导体设备视觉清晰化技术研究 |
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| 引用本文： | 杨帆,高岳,孙广翔. 半导体设备视觉清晰化技术研究[J]. 电子工业专用设备, 2014, 0(10): 1-4 |
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| 作者姓名： | 杨帆 高岳 孙广翔 |
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| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京,100176 |
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| 摘 要： | 在蓝宝石衬底的LED生产工艺中,对半导体设备的显微镜成像清晰程度提出了很高的要求。以国内多家LED大型生产厂商的工艺为实验蓝本,针对多种清晰化方案进行了比对,进而提出一种基于图像处理的清晰化方案,并具有高度的实时性,可行性,可靠性,鲁棒性
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| 关 键 词： | 蓝宝石 蓝宝石衬底 视觉清晰化 LED工艺 |
The Research of Visual Clarity Methods For Semiconductor Equipment |
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| YANG Fan,GAO Yue,SUNG uangxiang. The Research of Visual Clarity Methods For Semiconductor Equipment[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2014, 0(10): 1-4 |
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| Authors: | YANG Fan GAO Yue SUNG uangxiang |
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| Affiliation: | YANG Fan;GAO Yue;SUN Guangxiang;The 45th Research Institute of CETC; |
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| Keywords: | Sapphire Sapphire substrates V isualclarity LED process |
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