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沉积温度对ZrO2薄膜相结构和透射率的影响
引用本文:刘建华,徐可为.沉积温度对ZrO2薄膜相结构和透射率的影响[J].真空科学与技术学报,2004,24(5):321-323,328.
作者姓名:刘建华  徐可为
作者单位:西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049
基金项目:西安交通大学校科研和教改项目
摘    要:利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl片和石英上沉积ZrO2薄膜.薄膜厚度80 nm~100 nm.利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线能谱仪、分光光度计和原子力显微镜研究了沉积温度对薄膜相结构和O/Zr、透射率的影响.研究发现,沉积温度升高,非晶相减少,结晶相增多;晶粒尺寸增大;沉积温度为370 ℃,透射率明显下降.

关 键 词:ZrO2薄膜  磁控溅射  沉积温度  相结构  透射率
文章编号:1672-7126(2004)05-0321-03

Influence of Depositing Temperature on Microstructure and Optical Transmittance of ZrO2 Films
Liu Jianhua and Xu Kewei.Influence of Depositing Temperature on Microstructure and Optical Transmittance of ZrO2 Films[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2004,24(5):321-323,328.
Authors:Liu Jianhua and Xu Kewei
Affiliation:Liu Jianhua and Xu Kewei *
Abstract:
Keywords:O/Zr
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