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| 0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术 | |
| 引用本文： | 谢常青,伊福廷.0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J].微细加工技术,1999(3):32-34,5. |
| 作者姓名： | 谢常青 伊福廷 |
| 作者单位： | [1]中国科学院微电子中心三室 [2]科学院高能物理所同步室 |
| 摘 要： | 报道了用Ｘ射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）３ＢＩＡ光刻束线获得的０．５μｍ的光刻分辨率的实验结果。 |
| 关 键 词： | X射线光刻 分辨率 同步辐射 氮化硅薄膜 |
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