Ti-Si-N纳米复合薄膜的结构与性能 |
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作者姓名: | 牛新平马大衍 马胜利徐可为 |
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作者单位: | 西安交通大学,金属材料强度国家重点实验室,陕西,西安,710049 |
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基金项目: | 中国科学院资助项目,国家自然科学基金,科技部科研项目,教育部新世纪优秀人才支持计划 |
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摘 要: | 用工业型脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术,在高速钢(W18Cr4V)表面沉积了Ti-Si-N复合薄膜,研究了Ti-Si-N复合薄膜的微观组织和力学性能.结果显示,薄膜相结构为纳米晶TiN和纳米晶或非晶TiSi2以及非晶相Si3N4;在Si含量为5.0 at%~28.0 at%范围内,薄膜的晶粒尺寸逐渐变大;Ti-Si-N薄膜的显微硬度相对于TiN有明显增加,最高硬度可达40 GPa;高温退火后,Ti-Si-N纳米复合薄膜的显微硬度与晶粒尺寸在800℃高温下仍然保持稳定.
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关 键 词: | 纳米复合薄膜 晶粒尺寸 显微硬度 |
文章编号: | 1002-185X(2005)11-1751-03 |
收稿时间: | 2003-12-10 |
修稿时间: | 2005-06-03 |
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