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热处理温度对ITO薄膜组织与光电性能的影响
引用本文:杨觉明,张康虎,余申卫,余萍,张海礁.热处理温度对ITO薄膜组织与光电性能的影响[J].热加工工艺,2004(12):26-28.
作者姓名:杨觉明  张康虎  余申卫  余萍  张海礁
作者单位:1. 西安工业学院,材料与化工学院,陕西,西安,710032
2. 中国船舶重工集团公司第十二研究所,陕西,兴平,713102
基金项目:陕西省教育厅科技专项基金资助项目(02JK147)
摘    要:采用溶胶-凝胶工艺制备出纳米晶ITO透明导电薄膜。采用XRD和SEM分析了薄膜物相和显微形貌。采用面电阻仪和分光光度计测量了薄膜方阻和透光率。实验结果表明,随热处理温度升高,晶化趋于完整,组织逐渐均匀致密,晶粒有所长大,700℃热处理时薄膜完全晶化。另外,随热处理温度升高,方阻减小而透光率增加。经过700℃热处理,厚度400nm的ITO膜的方阻约300Ω/□,透光率>80%。

关 键 词:铟锡氧化物  溶解-凝胶工艺  透明导电膜  方阻  透光率
文章编号:1001-3814(2004)12-0026-03
修稿时间:2004年10月8日

Effect of Temperature of Heat Treatment on Microstructure and Optical-electrical Properties of ITO Thin Films
Abstract:
Keywords:indium tin oxide  sol-gel process  transparent conductive film  optical-electrical properties
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