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掺杂氧化锌薄膜的最新进展
引用本文:刘波,赵小如,冯娴娴,刘凯,赵亮.掺杂氧化锌薄膜的最新进展[J].液晶与显示,2009,24(4).
作者姓名:刘波  赵小如  冯娴娴  刘凯  赵亮
作者单位:西北工业大学,理学院,应用物理系,陕西,西安,710072
摘    要:掺杂氧化锌(ZnO)薄膜是一种新型的透明导电氧化物(TCO)材料,因有替代氧化铟锡(ITO)的潜能而成为当今TCO材料中的研究热点,其优异的光学和电学性能使其在平板显示器、太阳能电池等光电器件中具有光明的应用前景.文章对ZnO基半导体材料的结构和性能进行了介绍,综述了近年来以ZnO薄膜为基体的n型和p型掺杂的研究进展,并在此基础上对未来的发展方向进行了展望.

关 键 词:氧化锌  透明导电  电阻率  透过率

Recent Research Developments of Doped ZnO Films
LIU Bo,ZHAO Xiao-ru,FENG Xian-xian,LIU Kai,ZHAO Liang.Recent Research Developments of Doped ZnO Films[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2009,24(4).
Authors:LIU Bo  ZHAO Xiao-ru  FENG Xian-xian  LIU Kai  ZHAO Liang
Abstract:
Keywords:
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