首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

PI/石墨微片半导电复合薄膜的制备与表征
引用本文:吴雪松,刘立柱,张海军,翁凌,王诚.PI/石墨微片半导电复合薄膜的制备与表征[J].塑料工业,2014,42(10):21-24,54.
作者姓名:吴雪松  刘立柱  张海军  翁凌  王诚
作者单位:1. 哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨,150040
2. 哈尔滨理工大学工程电介质及其应用教育部重点实验室,黑龙江哈尔滨,150080
摘    要:通过乙醇超声处理膨胀石墨的方法制备石墨微片,并用原位聚合法制备聚酰亚胺/石墨微片复合薄膜;探讨了复合薄膜的结构、微观形态;讨论了石墨微片的含量对复合薄膜的体积电阻率、表面电阻率、力学性能以及热稳定性的影响。结果表明,石墨微片能够在聚酰亚胺基体中均匀分布,并对复合薄膜亚胺化过程没有影响,复合薄膜亚胺化完全。复合薄膜较纯膜力学性能有所下降,热稳定性提高,在石墨微片质量分数为4%时,达到渗滤阈值,体积电阻率和表面电阻率均可下降到108数量级,达到半导电复合薄膜的要求。

关 键 词:聚酰亚胺  石墨微片  复合薄膜  体积电阻率  表面电阻率

Synthesis and Characteristics of Polyimide/Graphite Microchip Semiconductor Composite Film
WU Xue-song,LIU Li-zhu,ZHANG Hai-jun,WENG Ling,WANG Cheng.Synthesis and Characteristics of Polyimide/Graphite Microchip Semiconductor Composite Film[J].China Plastics Industry,2014,42(10):21-24,54.
Authors:WU Xue-song  LIU Li-zhu  ZHANG Hai-jun  WENG Ling  WANG Cheng
Affiliation:WU Xue-song;LIU Li-zhu;ZHANG Hai-jun;WENG Ling;WANG Cheng;College of Materials Science and Engineering,Harbin University of Science and Technology;Key Laboratory of Engineering Dielectric and Its Application,Ministry of Education,Harbin University of Science and Technology;
Abstract:
Keywords:Polyimide  Graphite Microchip  Composite Film  Surface Resistivity  Volume Resistivity
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号