| 大面积液晶面板光刻机新型工作台设计 |
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| 引用本文： | 葛 ,林永水,石宗宝,王思年,吴淦淦.大面积液晶面板光刻机新型工作台设计[J].中国机械工程,1995(Z1). |
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| 作者姓名： | 葛 林永水 石宗宝 王思年 吴淦淦 |
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| 作者单位： | 福州大学机械系 |
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| 摘 要： | 论述曝光面积可达３３５．６ｍｍ×３５５．６ｍｍ（４″×１４″），套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５μｍ）液晶面版光刻机的新型工作台设计。
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| 关 键 词： | 液晶面版光刻机，光刻机工作台，曝光间隙，掩模，基片 |
Design on A New Type of Working Table of Photolithographic Equipment for the Largesized Liquid Crystal Panel |
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| Ge Lang, Lin Yonghui, Shi Zhongbao et al..Design on A New Type of Working Table of Photolithographic Equipment for the Largesized Liquid Crystal Panel[J].China Mechanical Engineering,1995(Z1). |
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| Authors: | Ge Lang Lin Yonghui Shi Zhongbao |
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| Affiliation: | Ge Lang; Lin Yonghui; Shi Zhongbao et al. |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | liquid crystal panel working table design |
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