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退火温度对不连续多层膜磁性及微结构的影响
引用本文:贾利云,许佳玲,曲蛟,侯登录.退火温度对不连续多层膜磁性及微结构的影响[J].河北建筑工程学院学报,2007,25(4):9-11.
作者姓名:贾利云  许佳玲  曲蛟  侯登录
作者单位:[1]河北建筑工程学院数理系,张家口市075024 [2]河北师范大学信息与物理科学学院,张家口市075024
摘    要:通过射频和直流磁控溅射方法和原位退火工艺将Fe颗粒嵌入绝缘SiO2母体中制备了系列不连续金属绝缘体多层膜样品.研究发现,热处理温度对薄膜中的磁性颗粒分布和磁性能有很大的影响.通过扫描探针显微镜对样品的微结构进行了分析,发现在400℃时形成典型的不连续多层膜结构,磁性颗粒比较均匀的分散在母体当中.样品的磁性能测量结果显示该样品具有较好的磁性能.

关 键 词:不连续多层膜  磁性  微结构
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