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| 金属样品扫描电镜二次电子特性蒙特卡洛模拟 | |
| 作者单位： | ;1.西安航空学院;2.西安理工大学自动化与信息工程学院 |
| 摘 要： | 采用较为准确的考虑电子散射和二次电子出射过程的蒙特卡洛模型,研究了不同金属样品的二次电子产额、能谱、出射角度、出射位置,模拟二次电子成像电流和扫描电镜二次电子图像。模拟结果表明,二次电子能谱的最可几能量和峰值半宽度略高于实验结果;二次电子出射角度呈现近似的余弦分布;随着入射电子束能量的提高,二次电子出射范围越大,对应二次电子图像的分辨率降低,但会提高图像衬度;二次电子收集器电压越高,二次电子成像电流越大。模拟得到的扫描电镜二次电子图像与实验结果较为接近。 |
| 关 键 词： | 二次电子 扫描电镜 散射 蒙特卡洛模拟 |
Monte Carlo Simulation of Secondary Electron Characteristics of the Metal Samples in SEM |
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