三元型钾-四氢呋喃-GIC的制备及稳定性研究 |
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引用本文: | 肖敏,刘静静,李赟,龚克成.三元型钾-四氢呋喃-GIC的制备及稳定性研究[J].新型炭材料,2003,18(1):53-59. |
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作者姓名: | 肖敏 刘静静 李赟 龚克成 |
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作者单位: | 1. 中山大学,理工学院,广东,广州,510275 2. 华南理工大学,材料学院,广东,广州,510641 |
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基金项目: | 国家自然科学基金(59836230) |
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摘 要: | 采用正交试验设计方法优化反应条件制备了纯1阶结构的钾-四氢呋喃-石墨插层化合物(K-THF-GIC),研究了1阶K-THFG-GIC在空气中放置,溶剂洗涤以及加热处理时的稳定性,并对K,THF嵌入石墨层间以及从石墨层间脱嵌的过程进行了探讨。结果表明:制备K-TNF-GIC时,插层剂浓度和插层反应时间对产物结构的影响很大,较大的插层剂浓度,较长的反应时间有利于石墨反应完全;1阶K-THF-GIC的稳定性较差,K,THF容易从层间脱嵌,使得阶结构由1阶向高阶变化,高阶K-THF-GIC的稳定性相对1阶K-THF-GIC来说要好一些,即形成高阶K-THF-GIC后,K、THF从层间脱嵌在速率要慢些。
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关 键 词: | 三元型 钾-四氢呋喃-GIS 制备 稳定性研究 石墨插层化合物 石墨插层化合物 人工合成 |
文章编号: | 1007-8827(2003)01-0053-07 |
修稿时间: | 2002年10月30 |
Preparation and stability of a ternary potassium-tetrahydrofuran-graphite intercalation compound |
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Abstract: | |
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