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| UF-RO工艺回用处理半导体废水 | |
| 引用本文： | 王春冬,李正华,应晓芳.UF-RO工艺回用处理半导体废水[J].工业用水与废水,2019,50(5). |
| 作者姓名： | 王春冬 李正华 应晓芳 |
| 作者单位： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,上海,201203;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,上海,201203;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,上海,201203 |
| 摘 要： | 半导体制造过程中产生的晶背研磨废水具有有机物浓度低,悬浮物含量高的特点,针对某半导体厂的晶背研磨废水和反洗废水,设计采用UF-RO工艺处理。工程应用表明:在晶背研磨废水TOC质量浓度为0.5～5.0 mg/L,浊度为80～100 NTU, SiO2质量浓度为2～4 mg/L,反洗废水TOC质量浓度为1.5～3.0 mg/L,浊度为4～8NTU时,处理出水TOC质量浓度低于1 mg/L,浊度低于0.1 mg/L, SiO2质量浓度低于1 mg/L,完全可以回用至超纯水预处理系统。 |
| 关 键 词： | 半导体废水 晶背研磨废水 超滤 反渗透 |
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