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电沉积铁镍纳米合金薄膜的结构和性能研究
引用本文:刘天成,卢志超,李德仁,孙克,周少雄,卢燕平.电沉积铁镍纳米合金薄膜的结构和性能研究[J].功能材料,2007,38(1):138-141.
作者姓名:刘天成  卢志超  李德仁  孙克  周少雄  卢燕平
作者单位:1. 钢铁研究总院,安泰科技股份有限公司,北京,100081
2. 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) , 北京市科技计划
摘    要:采用电沉积方法从硫酸盐体系镀液中沉积得到Fe18Ni82合金薄膜.运用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射分析(XRD)以及磁测量设备分别对薄膜的表面形貌、显微结构和磁性能进行表征和测量.同时利用万能材料试验机和显微硬度计测量了薄膜的力学性能.结果表明:电沉积制备的Fe18Ni82合金薄膜成分均匀,表面平整、光亮、致密,晶粒大小为40~50 nm.薄膜是以Ni为溶剂原子,Fe为溶质原子的置换型固溶体,只存在单一的fcc相,Fei8Ni82合金薄膜沿(111)面有较强的择优取向.镀态Fei8Ni82合金薄膜在50 Hz交流磁场下,测得其饱和磁感应强度为1.08 T,最低矫顽力为20 A/m.19 μm厚的纳米晶薄膜的断裂应力达到785MPa,显微硬度达到605Hv.

关 键 词:铁镍合金  薄膜  电沉积  纳米结构  性能
文章编号:1001-9731(2007)01-0138-04
修稿时间:2006-07-28

Investigation on the microstructure and properties of electrodeposited iron-nickel alloy film with nano-structure
LIU Tian-cheng,LU Zhi-chao,LI De-ren,SUN Ke,ZHOU Shao-xiong,LU Yan-ping.Investigation on the microstructure and properties of electrodeposited iron-nickel alloy film with nano-structure[J].Journal of Functional Materials,2007,38(1):138-141.
Authors:LIU Tian-cheng  LU Zhi-chao  LI De-ren  SUN Ke  ZHOU Shao-xiong  LU Yan-ping
Abstract:
Keywords:iron-nickel alloy  thin film  electrodeposition  nano-structure  properties
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