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| 新型核-壳结构PS/CeO_2和PS/SiO_2复合磨料的制备及其抛光性能 | |
| 引用本文： | 陈杨,隆仁伟,陈志刚,陈爱莲.新型核-壳结构PS/CeO_2和PS/SiO_2复合磨料的制备及其抛光性能[J].中国有色金属学报,2010,20(8). |
| 作者姓名： | 陈杨 隆仁伟 陈志刚 陈爱莲 |
| 作者单位： | 1. 江苏工业学院,材料科学与工程学院,常州,213164 2. 苏州科技学院,苏州,215011 3. 江苏工业学院,机械与能源学院,常州,213164 |
| 基金项目： | 江苏省工业支撑计划资助项目，常州市工业科技攻关资助项目，常州大学青年人才基金资助项目 |
| 摘 要： | 以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征。将所制备的复合磨料用于硅晶片表面二氧化硅介质层的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌,并测量表面粗糙度。结果表明:所制备的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒呈近球形,粒径为250～300nm,且具有核壳包覆结构,包覆层的厚度为10～20nm;硅晶片表面二氧化硅介质层经PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒抛光后,表面无划痕,且非常平整,在5μm×5μm范围内,粗糙度均方根值(RMS)分别为0.238nm和0.254nm。 |
| 关 键 词： | PS/CeO2 复合磨料 PS/SiO2 复合磨料 核-壳结构 包覆 化学机械抛光 |
Preparation and polishing performance of polystyrene-ceria and polystyrene-silica composite with novel core-shell structure |
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| CHEN Yang,LONG Ren-wei,CHEN Zhi-gang,CHEN Ai-lian.Preparation and polishing performance of polystyrene-ceria and polystyrene-silica composite with novel core-shell structure[J].The Chinese Journal of Nonferrous Metals,2010,20(8). | |
| Authors: | CHEN Yang LONG Ren-wei CHEN Zhi-gang CHEN Ai-lian |
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