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磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响
引用本文:李兆泽,李圣怡,戴一帆,彭小强.磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响[J].中国机械工程,2008,19(21):0-2645.
作者姓名:李兆泽  李圣怡  戴一帆  彭小强
作者单位:国防科学技术大学,长沙,410073
摘    要:介绍了磨料射流抛光的工作原理,并从试验出发,针对射流抛光技术的主要工艺参数(入射角度、射流速度、入射距离、抛光液浓度和工作时间等)对抛光特性的影响进行了试验研究.分析了各工艺参数与抛光效率和抛光点形貌的影响关系,从而获得了最佳工艺参数.在此基础上,对一平面K9光学玻璃进行了抛光试验,抛光速率约为30nm/min,抛光区粗糙度小于2.5nm.研究结果为磨料射流抛光加工的进一步研究提供了一定的帮助.

关 键 词:磨料射流  抛光  去除率  表面粗糙度

Effects of Various Parameters on Material Removal Rate and the Footprint in Abrasive Jet Polishing Process
Li Zhaoze,Li Shengyi,Dai Yifan,Peng Xiaoqiang.Effects of Various Parameters on Material Removal Rate and the Footprint in Abrasive Jet Polishing Process[J].China Mechanical Engineering,2008,19(21):0-2645.
Authors:Li Zhaoze  Li Shengyi  Dai Yifan  Peng Xiaoqiang
Abstract:
Keywords:abrasive jet  polishing  removal rate  surface roughness
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