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| 用于ICF驱动器的色分离光栅的制作 | |
| 引用本文： | 胡新宁,刘刚,田扬超. 用于ICF驱动器的色分离光栅的制作[J]. 微细加工技术, 2008, 0(1) |
| 作者姓名： | 胡新宁 刘刚 田扬超 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院电工研究所,北京,100080;中国科学院研究生院,北京,100039 2. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230029 |
| 摘 要： | 介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究.用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束对100 mm×100 mm石英基片进行刻蚀,制作出了周期为300 μm色分离光栅.实验测得零级次上3ω(351 nm)光的归一化衍射效率达到了91.9%.结果表明,这套工艺方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蚀图形分辨率高、侧壁较陡等优点,为进一步制作高衍射效率的色分离光栅提供了参考. |
| 关 键 词： | 色分离光栅 光刻 离子束刻蚀 驱动器 色分离光栅 制作工艺 Drivers Used Grating Color Separation 侧壁 分辨率 图形 工艺方法 结果 衍射效率 归一化 级次 实验测 周期 刻蚀 石英基片 离子束 |
Fabrication of Color Separation Grating Used for ICF Drivers |
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| HU Xin-ning,LIU Gang,TIAN Yang-chao. Fabrication of Color Separation Grating Used for ICF Drivers[J]. Microfabrication Technology, 2008, 0(1) | |
| Authors: | HU Xin-ning LIU Gang TIAN Yang-chao |
| Affiliation: | HU Xin-ning1,2,LIU Gang3,TIAN Yang-chao3(1.Institute of Electrical Engineering,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100080,China,2.Graduate School of the Chinese Academy of Sciences,Beijing 100039,3.National Synchrotron Radiation Laboratory,University of Science , technology of China,Hefei 230029,China) |
| Abstract: | |
| Keywords: | color separation gratings photolithography ion-beam etching |
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