首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

乙烯掺杂APCVD法沉积非晶硅薄膜的光学特性
引用本文:詹宝华,宋晨路,刘涌,朱建强,韩高荣. 乙烯掺杂APCVD法沉积非晶硅薄膜的光学特性[J]. 材料科学与工程学报, 2005, 23(6): 843-845
作者姓名:詹宝华  宋晨路  刘涌  朱建强  韩高荣
作者单位:浙江大学材料科学与工程系,浙江,杭州,310027
摘    要:
通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的开始阶段薄膜的光学带隙随着R值增大而增大,在R=0.1时达到最大值,然后随着R值的增大而减小.

关 键 词:APCVD  非晶硅薄膜  红外光谱  紫外-可见光光谱  光学带隙
文章编号:1673-2812(2005)06-0843-03
修稿时间:2005-02-10

Optical Properties of Ethylene-doped Amorphous Si Film Prepared by APCVD
ZHAN Bao-hua,SONG Chen-lu,LIU Yong,ZHU Jian-qiang,HAN Gao-rong. Optical Properties of Ethylene-doped Amorphous Si Film Prepared by APCVD[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2005, 23(6): 843-845
Authors:ZHAN Bao-hua  SONG Chen-lu  LIU Yong  ZHU Jian-qiang  HAN Gao-rong
Abstract:
Keywords:APCVD  amorphous Si  FTIR  UV-VIS  optical gap
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号