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| 溅射压力对制备a-GaAs1-xNx 薄膜光学常数的影响 | |
| 作者姓名： | 贾宝山 王云华 周路 白端元 乔忠良 高欣 薄报学 |
| 基金项目： | Proiect suooorted bv the National Natural Science Foundation of China （Nos. 61177019, 61176048）. |
| 摘 要： | 采用反应磁控溅射法在室温条件下制备了a-GaAs1-xNx 薄膜。实验测定了薄膜厚度、氮含量、载流子浓度和光学透过率及并研究了其随溅射压的变化。系统研究了溅射压对所制备薄膜的光学带隙、折射率和色散参数的影响。所制备的薄膜为直接带隙材料,利用Cauchy和Wemple模型能够很好地拟合所制备薄膜的折射率色散曲线。 |
| 关 键 词： | 反应磁控溅射法 薄膜 压力 光学常数 色散关系 载流子浓度 玻璃基板 光学带隙 |
| 收稿时间： | 2012-01-17 |
| 修稿时间： | 2012-03-07 |
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