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| 容性耦合等离子体腔室放电特性仿真研究 | |
| 引用本文： | 杨旺,刘学平,夏焕雄,向东,牟鹏. 容性耦合等离子体腔室放电特性仿真研究[J]. 真空科学与技术学报, 2015, 35(6) |
| 作者姓名： | 杨旺 刘学平 夏焕雄 向东 牟鹏 |
| 作者单位： | 1. 清华大学深圳研究生院 深圳518000 2. 清华大学机械系 北京100084 |
| 摘 要： | 容性耦合等离子体射频放电广泛应用于IC制造中的薄膜沉积、刻蚀工艺中,等离子体中的电子密度和平均电子温度直接影响离化及激发反应速率,其在放电腔室中径向分布的均匀性严重影响刻蚀和薄膜沉积的均匀性。以某12寸腔体为研究对象,采用Comsol软件仿真研究了功率电极电压、腔室气压和极板间距对等离子体的电子密度和平均电子温度的影响规律。仿真研究发现:在研究的气压、电压、极板间距范围内,电子密度和平均电子温度随电压的增加而增加,其均匀性随电压的增加而变差;电子密度随气压的增加而增加,平均电子温度随气压的增加而降低,电子密度的均匀性随气压的增加而改善,电子温度的均匀性随气压的增加先变差再变好;电子密度随极板间距的增加而增加,平均电子温度随极板的增加而降低,电子密度和平均电子温度的均匀性随极板间距的增加而变好。研究结果对指导等离子体参与的IC工艺腔室结构设计及工艺控制具有重要意义。 |
| 关 键 词： | 容性耦合等离子体 放电参数 氩气放电 射频放电特性 |
Simulation of Discharge Characteristics of Capacitively Coupled Plasma |
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| Yang Wang,Liu Xueping,Xia Huanxiong,Xiang Dong,Mou Peng. Simulation of Discharge Characteristics of Capacitively Coupled Plasma[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2015, 35(6) | |
| Authors: | Yang Wang Liu Xueping Xia Huanxiong Xiang Dong Mou Peng |
| Abstract: | |
| Keywords: | Capacitively coupled plasma Discharge parameter Argon discharge Radio-frequency discharge characteristic |
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