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| 碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系 | |
| 引用本文： | 张素英,程实平.碲化物薄膜的附着牢固度与其显微结构的关系[J].红外与毫米波学报,1999,18(4):327-331. |
| 作者姓名： | 张素英 程实平 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083 2. 上海尼赛拉公司,上海,200083 3. 上海师范大学测试中心,上海,200234 4. 中国科学院上海冶金研究所,上海,200050 |
| 摘 要： | 用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）和透射电镜术（ＴＥＭ）观察Ｓｉ和Ｇｅ基板上ＰｂＴｅ、ＣｄＴｅ及ＰｂＧｅＴｅ单层薄膜及其与ＺｎＳ组合的多层薄膜的显微结构，给出了薄膜附着牢固度与薄膜显微结构的关系 |
| 关 键 词： | 碲化物 薄膜 显微结构 附着牢固度 |
DEPENDENCE OF ADHESION OF FILMS OF TELLURIDE UPON ITS MI CROSTRUCTURE |
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| ZHANG Su-Ying,FAN Bin,CHENG Shi-Ping,LIN Jie-Hu,ZHOU Shi-Yao,WANG Ge-Y,SHI Tian-Shen.DEPENDENCE OF ADHESION OF FILMS OF TELLURIDE UPON ITS MI CROSTRUCTURE[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,1999,18(4):327-331. | |
| Authors: | ZHANG Su-Ying FAN Bin CHENG Shi-Ping LIN Jie-Hu ZHOU Shi-Yao WANG Ge-Y SHI Tian-Shen |
| Abstract: | Microstructures of single layer of telluride and telluride/ZnS multilayer on Si and Ge substrates were investigated by XRD and TEM. The correlation between adhesion and microstructure of layers was given. |
| Keywords: | telluride film microstructure adhesion |
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