原位法合成螺吡喃功能化的UiO-66光响应吸附剂及其性能研究 |
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引用本文: | 朱竞,钟顺,雷昊,周丹,吴欣雨,刘永龙,戴勇.原位法合成螺吡喃功能化的UiO-66光响应吸附剂及其性能研究[J].山东化工,2023(6):19-22+26. |
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作者姓名: | 朱竞 钟顺 雷昊 周丹 吴欣雨 刘永龙 戴勇 |
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作者单位: | 盐城工学院化学化工学院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(No.21808195); |
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摘 要: | 传统吸附剂孔道结构和表面性质固定,往往难以兼顾高效吸附和脱附。采用原位合成法,制备螺吡喃功能化的金属有机骨架UiO-66,在其孔结构中构筑可光控调节的光响应吸附活性位。以阴离子染料甲基橙为吸附质模型,考查材料对吸附质的吸附及脱附性能。经紫外光照射后,样品OP-US对甲基橙的平衡吸附量从33.84 mg·g-1上升至42.41 mg·g-1,提升了25.32%;经可见光照后,甲基橙的脱附量比紫外光照时提升了51%。通过光照刺激改变UiO-66孔笼中螺吡喃分子的构型及表面电荷性质,即对吸附活性位进行光控调节,在不同光照条件下实现对吸附质的高效吸附和有效脱附,为新型高效吸附剂的制备和金属有机骨架材料的应用提供思路。
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关 键 词: | 吸附 脱附 光响应 螺吡喃 UiO-66 |
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