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扩散/氧化工艺控制管理系统的研制
引用本文:李金凤,张天开,李长启,刘德生.扩散/氧化工艺控制管理系统的研制[J].微计算机信息,2011(10).
作者姓名:李金凤  张天开  李长启  刘德生
作者单位:青岛理工大学自动化工程学院;
摘    要:本文给出一种半导体扩散/氧化生产工艺控制管理系统。系统由下位工艺控制单元和上位管理计算机组成。下位工艺控制单元实现扩散/氧化工艺要求的温度、气体流量控制及推拉舟位置控制。上位管理计算机实现扩散/氧化工艺管理、分析、与下位工艺控制单元互传信息。

关 键 词:扩散/氧化  下位工艺控制单元  上位管理计算机  

Development of Diffusion/Oxidation Process Control Management System
LI Jin-feng ZHANG Tian-kai LI Chang-qi LIU De-sheng.Development of Diffusion/Oxidation Process Control Management System[J].Control & Automation,2011(10).
Authors:LI Jin-feng ZHANG Tian-kai LI Chang-qi LIU De-sheng
Affiliation:LI Jin-feng ZHANG Tian-kai LI Chang-qi LIU De-sheng(Qingdao Technological University College of Automation Engineering,Qingdao,Shandong,266033,China)
Abstract:This paper presents a semiconductor diffusion/oxidation production process control management system.The system comprises the lower control unit and the upper management computer.The lower control unit achieves the control of temperature,gas flow and push-pull boat based on the diffusion/oxidation process.The upper management computer achieves diffusion/oxidation process management,analysis,and the exchange of information with the lower control unit.
Keywords:diffusion/oxidation  the lower control unit  the upper management computer  
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