| 磁控溅射Fe-N单层膜的研究 |
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| 引用本文： | 周剑平,李华飚,乔祎,张永平,顾有松,常香荣,赵春生,田中卓.磁控溅射Fe-N单层膜的研究[J].金属功能材料,2000,7(3):27-31. |
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| 作者姓名： | 周剑平 李华飚 乔祎 张永平 顾有松 常香荣 赵春生 田中卓 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083
2. 北京科技大学国家新金属材料重点实验室,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金委员会资助项目 |
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| 摘 要： | 本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射，氮流量对Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性和结构的影响。实验表明，基片温度为２００℃有助于提高Ｆｅ－Ｎ薄膜的办磁性能，基片为曙和１００℃，氮流量在０～２ｓｃｃｍ范围内变化时，未发现ｒ－Ｆｅ４Ｎ和ａ－Ｆｅ１６Ｎ２，薄膜中只有Ｎ在ａ－Ｆｅ蝇的固溶体。基片温度２００℃，氮流量大于１．０ｓｃｃｍ时，薄中出现ｒ－Ｆｅ４Ｎ，但仍未发现ａ－Ｆｅ１６Ｎ２，加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁
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| 关 键 词： | 饱和磁化强度 矫顽力 磁控溅射 Fe－N膜 |
Study on Fe-N Films Deposited by DC-Magnetron Sputtering |
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| Zhou Jianping,Li Huabiao,Qiao Yi,Zhang Yongping,Gu Yousong,Chang Xiangrong,Zhao Chunsheng,Tian Zhongzhuo.Study on Fe-N Films Deposited by DC-Magnetron Sputtering[J].Metallic Functional Materials,2000,7(3):27-31. |
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| Authors: | Zhou Jianping Li Huabiao Qiao Yi Zhang Yongping Gu Yousong Chang Xiangrong Zhao Chunsheng Tian Zhongzhuo |
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| Affiliation: | Zhou Jianping1,Li Huabiao1,Qiao Yi2,Zhang Yongping1,Gu Yousong1,Chang Xiangrong1,Zhao Chunsheng1,Tian Zhongzhuo1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | saturation magnetization coercivity magnetron sputtering Fe-N film |
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