| N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷的膜形貌及其XPS分析 |
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| 引用本文： | 安秋凤,李明涛,王前进.N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷的膜形貌及其XPS分析[J].高分子材料科学与工程,2008,24(2):115-118,123. |
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| 作者姓名： | 安秋凤 李明涛 王前进 |
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| 作者单位： | 陕西科技大学化学与化工学院,陕西,咸阳,712081 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50373025)，陕西省科技厅计划发展项目(2006K07-G22)，陕西科技大学创新团队项目(SUST-B23) |
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| 摘 要： | 利用八甲基环四硅氧烷D4与氨基硅烷以及二苯基二甲氧基硅烷等的聚合反应,合成了一种N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷(PASO),用原子力显微镜AFM、光电子能谱XPS等仪器研究了PASO的成膜形态、表面相组成及膜的表面性能。结果表明,在单晶硅表面,PASO可形成略显粗糙的疏水性硅膜,在其表面有纤细尖峰存在。因此,在观察标尺为3 nm、扫描范围为2μm×2μm的条件下,PASO膜表面的均方根粗糙度达到了0.228 nm。
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| 关 键 词： | 氨基硅 聚二苯基硅氧烷 原子力显微术 膜形貌 疏水性硅膜 |
| 文章编号： | 1000-7555（2008）02-0115-04 |
| 收稿时间： | 2006-08-31 |
| 修稿时间： | 2007-01-04 |
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