浅谈等离子氧化技术

本文简述了等离子氧化技术,这是国外近年来研究的一种低温、干法氧化工艺。它对于硅和化合物半导体的氧化有着独特的优点,是一种很有希望的新工艺。本文重点介绍了这种技术的基本原理、产生氧等离子体的几种方法、氧化工艺、氧化膜特性及在器件中的应用。