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| 超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术 | |
| 引用本文： | 高丽萍.超大规模集成电路中的CVD薄膜淀积技术[J].电子工程师,2000,26(7). |
| 作者姓名： | 高丽萍 |
| 作者单位： | 华越微电子有限公司,绍兴市,312016 |
| 摘 要： | 介绍了在超大规模集成电路制造工艺中 ,用化学气相 (CVD)方法淀积各种薄膜的反应机理和特性 ,及这些薄膜在器件制造工艺中的应用。 |
| 关 键 词： | 薄膜 CVD 淀积 |
CVD Thin-Film Process for ULSI |
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| Gao Lipingn.CVD Thin-Film Process for ULSI[J].Electronic Engineer,2000,26(7). | |
| Authors: | Gao Lipingn |
| Abstract: | |
| Keywords: | CVD |
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