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用于微测辐射热计的氧化钒薄膜的光电性能研究
引用本文:王银玲  李美成  李洪涛 赵连城. 用于微测辐射热计的氧化钒薄膜的光电性能研究[J]. 功能材料, 2004, 35(Z1): 1604-1607
作者姓名:王银玲  李美成  李洪涛 赵连城
作者单位:王银玲(哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001);李美成(哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001);李洪涛(哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001);赵连城(哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001)
基金项目:国家自然科学基金委员会资助项目(50272019);哈尔滨工业大学校基金资助项目(HIT.2001.15)
摘    要:采用磁控溅射方法在p-Si(100)衬底上制备了VO2和择优取向的V6O13混合相成分的薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)、傅立叶红外光谱(FT-IR)分析及四探针测试方法,研究了薄膜的相成分和红外吸收特性,并测试分析了薄膜的电学热稳定性.研究结果表明,通过这种方法制备的氧化钒薄膜具有较低的电阻率和较高的电阻温度系数(TCR),并且具有良好的热稳定性,可以作为微测辐射热计的热敏材料.

关 键 词:氧化钒  相变  红外吸收特性  热稳定性
文章编号:1001-9731(2004)增刊-1604-04
修稿时间:2000-03-11

Optical and electricalproperties of VOx thin film for microbolometer
WANG Yin-ling. Optical and electricalproperties of VOx thin film for microbolometer[J]. Journal of Functional Materials, 2004, 35(Z1): 1604-1607
Authors:WANG Yin-ling
Abstract:
Keywords:
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