| Ni-Te系统的扩散激活能和扩散系数研究 |
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| 引用本文： | 贾彦彦,韩汾汾,程宏伟,李志军,邹杨,徐洪杰.Ni-Te系统的扩散激活能和扩散系数研究[J].上海金属,2013,35(4):1-4,12. |
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| 作者姓名： | 贾彦彦 韩汾汾 程宏伟 李志军 邹杨 徐洪杰 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海应用物理研究所钍基熔盐堆研究中心,上海,201800 |
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| 基金项目： | 中科院钍基熔盐堆中心，上海市科技创新重点项目，国家自然科学基金青年基金，国家973项目 |
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| 摘 要： | 在Ni基底上电镀Te薄膜,然后在不同温度下对样品进行相同时间的真空热处理,经室温拉断后测得样品沿晶界断裂深度x。通过拟合ln(x2/t)与1/T的线性关系求出扩散激活能,得出中低温段Te在纯Ni中的晶界扩散系数,并对实验结果和计算进行了讨论。结果表明,在Ni表面镀Te条件下,随温度的升高,Ni的抗拉强度及延伸率急剧下降,试样断口上的沿晶断裂深度逐渐增大;计算得出Te沿纯Ni晶界扩散的激活能为152 kJ/mol,并得出在500℃到1 000℃之间的扩散系数表达式为:D=0.83×10-2exp(-18 360/T)cm2/s。
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| 关 键 词： | Ni-Te系 扩散深度 扩散激活能 扩散系数 |
STUDY ON DIFFUSION ACTIVATION ENERGY AND DIFFUSION COEFFICIENT OF Te IN Ni |
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| Jia Yanyan
,
Han Fenfen
,
Cheng Hongwei
,
Li Zhijun
,
Zou Yang
,
Xu Hongjie.STUDY ON DIFFUSION ACTIVATION ENERGY AND DIFFUSION COEFFICIENT OF Te IN Ni[J].Shanghai Metals,2013,35(4):1-4,12. |
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| Authors: | Jia Yanyan Han Fenfen Cheng Hongwei Li Zhijun Zou Yang Xu Hongjie |
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| Affiliation: | Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ni-Te Series Diffusion Depth Activation Energy Diffusion Coefficient |
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