光亮Fe—Ni合金电沉积工艺的研究

介绍了一种新的电沉积光亮Ｆｅ－Ｎｉ合金的方法。用这种方法在室温下电沉积出外观接近镜面的Ｆｅ－Ｎｉ合金镀层，其厚度可达３７μｍ。经Ｘ－ｒａｙ衍射及等离子光谱分析证实，所获得的合金镀层为γ（Ｆｅ－Ｎｉ）合金相，镀层中含Ｆｅ和Ｎｉ的量分别为２３．５％￣４５．７％和７６．２％￣５３．８％，同时含有少量的Ｐ和Ｂ元素。文中对电沉积的工艺条件、光亮剂ＨＢ、添加剂ＨＴ的作用和影响进行了分析和探讨。