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| 第十二讲:真空工艺 | |
| 引用本文： | 张以忱.第十二讲:真空工艺[J].真空,2003(5):64-66. |
| 作者姓名： | 张以忱 |
| 作者单位： | 东北大学,辽宁,沈阳,110006 |
| 摘 要： | 2.1.3 离子轰击除气(上接2003年第4期第66页) 利用离子源或空间辉光放电而产生的气体离子轰击被除气的表面,使吸附在材料表面层的污染物(吸附气体、氧化物等)发生溅射作用而分解解吸出来.由于重离子的溅射作用比较强烈,因此常将惰性气体离化作为轰击离子.用于离子轰击除气的离子能量一般为200～1000 eV. |
| 关 键 词： | 真空工艺 离子轰击除气 溅射阈能 升华热 溅射率 金属材料 玻璃材料 陶瓷材料 |
12th Course,vacuum technology |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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