| 对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析 |
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| 引用本文： | 王国荃,罗腾蛟,陈福余,徐志如.对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析[J].微细加工技术,1993(2). |
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| 作者姓名： | 王国荃 罗腾蛟 陈福余 徐志如 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所，中国科学院上海冶金研究所 上海 200050，上海 200050，上海 200050，上海 200050 |
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| 摘 要： | 本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。
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| 关 键 词： | 尺寸精度 套准精度 芯片合格率 |
QUALITY ANALYSIS OF THE MASKS FABRICATION BY A RASTER SCAN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY |
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| Wang Guoquan,Luo Tengjiao,Chen Fuyu and Xu Zhiru.QUALITY ANALYSIS OF THE MASKS FABRICATION BY A RASTER SCAN ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY[J].Microfabrication Technology,1993(2). |
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| Authors: | Wang Guoquan Luo Tengjiao Chen Fuyu and Xu Zhiru |
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| Abstract: | To fabricate higher quality masks, this paper studies the main factors affecting the quality of masks, which includes dimension accuracy of pattern, registration accuracy of masks and chip yield on the basis of a variety of masks fabricated skillfully by an advanced electron beam machine. |
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| Keywords: | dimension accuracy of pattern registration accuracy of masks chip yield |
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