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| 台积电谈有关28nm工艺良率问题 | |
| 作者姓名： | 吴琪乐 |
| 摘 要： | 正台积电(TSMC)日前回应了稍早前分析师指称该公司28nm CMOS工艺存在着良率问题的说法。台积电欧洲公司总裁Maria Marced重申她与其他台积电高层之前所强调的:减少28nm节点的缺陷密度一直在掌握中,以量产进度来看甚至快于40/45nm工艺技术。 |
| 关 键 词： | 工艺节点 缺陷密度 问题 晶圆 迎接挑战 技术发展趋势 设计 定案 工艺技术 销售额 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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