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射频等离子体沉积非晶碳氢薄膜及其阻隔性能
引用本文:张跃飞,张广秋,葛袁静,陈光良,王瑜.射频等离子体沉积非晶碳氢薄膜及其阻隔性能[J].包装工程,2004,25(4):177-180.
作者姓名:张跃飞  张广秋  葛袁静  陈光良  王瑜
作者单位:北京印刷学院,北京,02600
基金项目:北京市优秀人才培养基金
摘    要:采用射频辉光放电等离子体化学气相沉积系统,,以甲烷和氩气作为工作气体在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)片和玻璃片基上沉积了非晶碳氢薄膜,利用傅立叶变换红外光谱(FTIR)对碳氢薄膜的结构进行研究,并且通过透水蒸汽相对比较实验检测了PET上沉积碳氢膜的阻隔性能,详细讨论了沉积工艺参数对碳氢薄膜结构和阻隔性能的影响.实验结果证明,沉积的薄膜越厚,碳氢膜的含量越高,阻隔性能越好,沉积碳氢膜的PET阻隔性比原始PET都有明显提高,当膜厚达900nm时,阻水蒸汽透过率可提高7倍.

关 键 词:等离子体化学气相沉积  碳氢膜  阻隔性能
文章编号:1001-3563(2004)04-0177-04
修稿时间:2004年6月28日

Gas Barrier Properties of Amorphous Hydrogenated Carbon Films by Plasma -enhanced CVD
ZHANG Yue-fei,ZHANG Guang-qiu,GE Yuan-jing,CHEN Guang-liang,WANG Yu.Gas Barrier Properties of Amorphous Hydrogenated Carbon Films by Plasma -enhanced CVD[J].Packaging Engineering,2004,25(4):177-180.
Authors:ZHANG Yue-fei  ZHANG Guang-qiu  GE Yuan-jing  CHEN Guang-liang  WANG Yu
Abstract:
Keywords:Plasma-enhanced chemical vapor deposition  Hydrogenated carbon films  Barrier properties
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