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用CMOSⅢ工艺制作小于100ns的256kDRAM
引用本文:
Roger I Kung ,李忠义.用CMOSⅢ工艺制作小于100ns的256kDRAM[J].微电子学,1985(Z1).
作者姓名:
Roger I Kung
李忠义
摘 要:
动态随机存取存贮器最近不仅在密度上,而且也在性能上得到改善。CMOS工艺上的最新进展使CMOS静态和动态随机存取存贮器能提供低功耗,而密度和性能已达到
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