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SiC单晶的性质、生长及应用
引用本文:王世忠,徐良瑛,束碧云,肖兵,庄击勇,施尔畏.SiC单晶的性质、生长及应用[J].无机材料学报,1999(4).
作者姓名:王世忠  徐良瑛  束碧云  肖兵  庄击勇  施尔畏
作者单位:中国科学院上海硅酸盐研究所!上海200050
基金项目:中国博士后科学基金,“863” 高技术计划
摘    要:本文综述了 Si C 单晶的物理性质、晶体结构、制备过程以及应用等详细地介绍了大尺寸 Si C 单晶的 P V T 法制备和该过程中的关键要素, 分析了 P V T 法制备的 Si C单晶中所存在的缺陷及其成因

关 键 词:碳化硅  单晶  生长  物理性质  半导体器件

Physical Properties, Bulk Growth, and Applications of SiC Single Crystal
WANG Shi Zhong,XU Liang Ying,SHU Bi Yun,XIAO Bing ZHUANG Ji Yong,SHI Er Wei.Physical Properties, Bulk Growth, and Applications of SiC Single Crystal[J].Journal of Inorganic Materials,1999(4).
Authors:WANG Shi Zhong  XU Liang Ying  SHU Bi Yun  XIAO Bing ZHUANG Ji Yong  SHI Er Wei
Abstract:This article reviewed on the physical properties, the crystal structure, the growth methods, and the applications of the SiC single crystal The preparation of the SiC single crystal by sublimation method was introduced in detail The defects of SiC single crystal caused in the PVT process were discussed
Keywords:silicon carbide  crystal  growth  physical property  semiconductor device  
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