| 微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜 |
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| 引用本文： | 黄建良,汪建华. 微波法大功率稳定快速沉积CVD金刚石膜[J]. 武汉工程大学学报, 2007, 29(4) |
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| 作者姓名： | 黄建良 汪建华 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | ![]()
为了提高微波等离子体化学气相沉积CVD金刚石膜的速率,通过对微波源的磁控管、装置的冷却系统及真空密封技术三方面的改进,当微波频率为2.45 GHz、输出有效功率为6.0 kW以上时,装置能够长期稳定地运行;并在微波输入功率4.5 kW、CH4质量分数1.2%、气体流量150 SCCM、沉积气压9.5 kPa、基片温度(900±10)°C、沉积时间240 h的沉积工艺条件下(衬底上加上-150 V偏压),成功地在硅片上快速沉积出了厚度为500 μm的金刚石厚膜,平均沉积速率为2.1 μm/h,沉积膜的拉曼光谱图和SEM照片表明沉积出金刚石膜的质量很好.
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| 关 键 词： | 金刚石膜 微波 化学气相沉积 装置 磁控管 |
Steady and rapid deposite CVD diamond films under high-power using microwave |
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| HUANG Jian-liang,WANG Jian-hua. Steady and rapid deposite CVD diamond films under high-power using microwave[J]. Journal of Wuhan Institute of Chemical Technology, 2007, 29(4) |
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| Authors: | HUANG Jian-liang WANG Jian-hua |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | |
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