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高密度垂直集成光电二极管焦平面列阵技术(下)
引用本文:顾聚兴.高密度垂直集成光电二极管焦平面列阵技术(下)[J].红外,2003(3):37-44.
作者姓名:顾聚兴
作者单位: 
摘    要:在p型材料中,俄歇复合包含两个空穴和一个电子,并且被称为俄歇7。对HgCdTe进行的计算表明,当0.2
关 键 词:高密度垂直集成光电二极管  焦平面列阵  暗电流  特点
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