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离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究
作者姓名:傅绍军 齐开国
摘    要:本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ronchi光栅的工艺技术,并对其衍射特性进行了讨论,同时给出实验结果。

关 键 词:位相型 Ronchi光栅 离子束刻蚀 紫外光刻
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