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采用离子注渗技术原位合成纳米级碳化钨颗粒
引用本文:刘俊友,许振兴,许振华,孙晶,赵天林,赵钢.采用离子注渗技术原位合成纳米级碳化钨颗粒[J].纳米技术与精密工程,2008,6(3):180-184.
作者姓名:刘俊友  许振兴  许振华  孙晶  赵天林  赵钢
作者单位:1. 北京科技大学材料与科学工程学院,北京,100083
2. 北京北科德瑞冶金工程技术有限公司,北京,100083
3. 北京永固运通表面合金科技有限公司,北京,100085
摘    要:采用高能离子注渗技术,首先在低碳钢表层注入W,然后再用渗碳的方法原位合成纳米级碳化钨(WC),其注渗层厚度达到1.0mm.低碳钢表层的显微硬度得到显著提高,从表层到心部硬度逐渐降低,呈梯度分布.通过扫描电镜、能谱分析、X射线衍射等分析手段证明了WC的存在.WC颗粒呈针状、板条状和块状弥散分布在低碳钢基体表层中,其尺寸在30~200nm之间.细小的WC颗粒与基体结合良好,有效地阻止了位错的运动和微裂纹的扩张,从而有效地提高了低碳钢基体的硬度.

关 键 词:离子注入  渗碳  低碳钢  原位合成  碳化钨

In Situ Synthesis of Nano-WC Particles by Ion Implantion
LIU Jun-you,XU Zhen-xing,XU Zhen-hua,SUN Jing,ZHAO Tian-lin,ZHAO Gang.In Situ Synthesis of Nano-WC Particles by Ion Implantion[J].Nanotechnology and Precision Engineering,2008,6(3):180-184.
Authors:LIU Jun-you  XU Zhen-xing  XU Zhen-hua  SUN Jing  ZHAO Tian-lin  ZHAO Gang
Abstract:
Keywords:
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