| 高效高速低温镀铬工艺的研究 |
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| 引用本文： | 苏贵品,李晓飞,曹文珍,胡信国.高效高速低温镀铬工艺的研究[J].材料科学与工艺,1991(3). |
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| 作者姓名： | 苏贵品 李晓飞 曹文珍 胡信国 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学，哈尔滨工业大学，哈尔滨工业大学，哈尔滨工业大学 |
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| 摘 要： | 以ERC为催化剂的铬酸电解液,在D_K=50～120A/dm~2条件下,可达到ηk=40～60％,沉积速度100～240μm/h,镀液温度在20～45℃之间,可自然升温操作。是一种高效、高速,低温的工程镀铬电解液。其分散能力优于Sargent体系。镀层硬度H_V>800。
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| 关 键 词： | 工程铬 电流效率 催化剂 沉积速度 |
Study on Chromium Plating Process with a High Efficiency and High Deposition Speed in Room Temperature |
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| Su Guipin Li Xiaofei Cao Wenzhen Hu Xinguo.Study on Chromium Plating Process with a High Efficiency and High Deposition Speed in Room Temperature[J].Materials Science and Technology,1991(3). |
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| Authors: | Su Guipin Li Xiaofei Cao Wenzhen Hu Xinguo |
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| Affiliation: | Harbin Institute of Technology |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | : engineering chromium currenf efficiencn catalyst rate of deposition |
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