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GaAs MESFET旁栅效应与旁栅距的关系研究
引用本文:丁干,崔丽娟,丁勇,毛友德,赵福川,夏冠群.GaAs MESFET旁栅效应与旁栅距的关系研究[J].微纳电子技术,2001,38(1):58-61.
作者姓名:丁干  崔丽娟  丁勇  毛友德  赵福川  夏冠群
作者单位:1. 山东胶南六汪中学,山东 青岛 260000
2. 合肥工业大学,安徽,合肥,230009
3. 中科院上海冶金所,上海,200000
摘    要:旁栅效应是影响 Ga As器件及电路性能的有害寄生效应。本文研究了旁栅阈值电压 Vth SG与旁栅距 LSG的关系 ,发现 Vth SG的大小与 LSG成正比关系 ,并理论探讨了产生这一现象的机制 ,从而验证了旁栅阈值电压与旁栅距关系的有关理论。

关 键 词:旁栅效应  旁栅距  碰撞电离
文章编号:1001-5507(2001)01-0058-04
修稿时间:2000年6月26日

Study on the relation between sidegating effect and the distance of side-gate/MESFET of GaAs MESFETs
DING Gan,CUI Li juan.Study on the relation between sidegating effect and the distance of side-gate/MESFET of GaAs MESFETs[J].Micronanoelectronic Technology,2001,38(1):58-61.
Authors:DING Gan  CUI Li juan
Abstract:Sidegating effect is a harmful parasitic effect to GaAs devices and circuits performance.In this paper we study the relation between the sidegating threshold voltage( V th SG ) and the distance of side gate/MESFET( L SG ),and find that the threshold voltage varies linearly with the distance.This result agrees with earlier experimental results.
Keywords:sidegating effect  distance of side  gate/MESFET  impact ionization
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