| 工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 张玉芹,邓小玲,刘行冰,符春林,成计平. 工艺因素对磁控溅射法制备钛酸锶钡薄膜性能的影响[J]. 硅酸盐通报, 2013, 32(12): 2544-2549 |
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| 作者姓名： | 张玉芹 邓小玲 刘行冰 符春林 成计平 |
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| 作者单位： | 重庆科技学院冶金与材料工程学院,重庆,401331 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51102288);重庆市自然科学基金资助项目(2010BB4286,2011BA4027);重庆市教委科学技术研究资助项目(KJ121408);重庆科技学院校内基金资助项目(CK2010Z07) |
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| 摘 要： | ![]()
磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用.本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 BST薄膜 工艺参数 性能, |
Effects of Magnetron Sputtering Parameters on the Properties of BST Thin Films |
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| ZHANG Yu-qin,DENG Xiao-ling,LIU Xing-bing,FU Chun-lin,CHENG Ji-ping. Effects of Magnetron Sputtering Parameters on the Properties of BST Thin Films[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 2013, 32(12): 2544-2549 |
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| Authors: | ZHANG Yu-qin DENG Xiao-ling LIU Xing-bing FU Chun-lin CHENG Ji-ping |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | magnetron sputtering BST thin film process parameter property, |
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