| 纳米CeO2颗粒的表面改性及其抛光性能研究 |
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| 引用本文： | 付银元,肖汉宁,欧阳唐哲,周筱桐,张海峰.纳米CeO2颗粒的表面改性及其抛光性能研究[J].硅酸盐通报,2013,32(6):1026-1031. |
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| 作者姓名： | 付银元 肖汉宁 欧阳唐哲 周筱桐 张海峰 |
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| 作者单位： | 湖南大学材料科学与工程学院,长沙,410082;湖南大学材料科学与工程学院,长沙410082;湖南翰林新材料股份有限公司,长沙410205;湖南翰林新材料股份有限公司,长沙,410205 |
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| 摘 要： | 为改善CeO2粉体的化学机械抛光(CMP)性能,采用聚乙烯亚胺(PEI)作为分散剂,对CeO2粉体表面进行改性,通过傅立叶红外光谱(FTIR)、透射电镜显微镜(TEM)、Zeta电位仪、激光粒度仪及稳定性测试等方法分析了表面改性对CeO2颗粒表面性质及其抛光液分散稳定性的影响.结果表明:纳米CeO2粉末经PEI改性后改变了其在水中的胶体性质,Zeta电位绝对值提高,CeO2颗粒间的空间位阻增加,抛光液的分散稳定性得到了明显改善.改性后纳米CeO2抛光液对手机面板玻璃的化学机械抛光(CMP)的抛光效率(MRR)由改性前的330 nm/min增加到381.6nm/min,具有更好的抛光效果.
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| 关 键 词： | 氧化铈 表面改性 聚乙烯亚胺 抛光效率 |
Surface Modification of Ceria Nanoparticles and Their Chemical Mechanical Polishing Behavior |
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| FU Yin-yuan,XIAO Han-ning,OUYANG Tang-zhe,ZHOU Xiao-tong,ZHANG Hai-feng.Surface Modification of Ceria Nanoparticles and Their Chemical Mechanical Polishing Behavior[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2013,32(6):1026-1031. |
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| Authors: | FU Yin-yuan XIAO Han-ning OUYANG Tang-zhe ZHOU Xiao-tong ZHANG Hai-feng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ceria surface modification polyethyleneimine polishing efficiency |
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