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低压低功耗集成电路:SOI技术的新机遇
作者姓名:张兴 王阳元
摘    要:
就热载流于效应、软失效、体效应及寄生电容等问题将薄膜全耗尽CMOS/SOI器件与体硅CMOS器件的进行比较。并阐述薄膜全耗尽CMOS/SOI技术是低压低功耗集成电路的理想技术。

关 键 词:低压低功耗 SOI 体硅 CMOS ULSI
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